韶关爱发科涡轮分子泵维修维护-广东潽拓光电

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    2024-2-29

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涡轮分子泵的特点很多,但是随着我国机械、、电子、化工等领域的高速发展,涡轮分子泵想要扩大它的市场占有率,其需要克服的难题还有很多。这些不仅仅需要人士的专研,同时也需要各界的共同努力,对涡轮分子泵特点的进一步研究,相信在未来是个值得突破的课题。




典型的涡轮分子泵抽气系统 ,抽气系统设置分开的粗抽管道和前级管道,爱发科涡轮分子泵维修维护,这种系统和常用的扩散泵抽气系统类似,其粗抽管道和前级管道的基本配置与扩散泵不同。扩散泵的正常运转要求前级泵具有足够大的抽速,以便在很大排气量时前级压力能低于临界前级压力,在涡轮分子泵抽气系统中,要选择具有足够容量的前级泵,使很靠近前级管道的叶片在很大排气量时处于分子流或者正好处于过渡流。




大多数涡轮分子泵的很大稳态进气口压力p1在0.5~1pa之间,而很大前级压力p2约为30pa。因为排气量为一常数,即p1s1=p2s2, (1)式(1)表明,涡轮分子泵抽速和前级泵抽速之s1/s2比应该在30到60的范围内,对于很大的对氢压缩比小于500的泵来说,其级配比应该为20:1。1-涡轮分子泵;2-液氮冷阱;3-放气阀;4-电离规;5-热传导规;6-粗抽阀;7-机械泵;8-前级管路阀;9-高真空阀。


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半导体产业链ic制造行业属于典型的技术密集型行业,产品技术含量非常高,同时对配套产业要求较高,其中就包括真空设备配套产业。真空设备(真空阀、真空泵、真空腔体及管道等)是半导体各工艺制程环节---的通用设备,广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂,需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作,例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。




这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行,而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着---的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中,分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产---集成电路的设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,上只有少数厂家掌握,因此光刻机价格昂贵。




光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现,原因是极紫外光很娇贵,在空气中容易损耗。同时,在光刻过程中,设备的动作时间误差以皮秒计,这对磁悬浮分子泵的振动值要求---。(注:皮秒=兆分之一秒)薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜,这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成,是使用多种工艺生长或沉积的。


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随着真空泵使用范围越来越广,了解其相关参数对于之后的生产工作的展开十分重要。1、抽气速率(体积流率):当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时,从试验罩流过的气体流量与在试验罩上位置测得的平衡压力之比。简称泵的抽速。即在一定的压力、温度下,真空泵在单位时间内从被抽容器中抽走的气体体积。




---压力(---真空):泵装有标准试验罩并按规定条件工作,在不引入气体正常工作的情况下,趋向稳定的比较低压力。即真空泵的入口端经过充分抽气后所能达到的比较低的稳定的压力。 3、起动压力: 泵无损坏起动并有抽气作用的压力 4、前级压力: 排气压力低于一个---压力的真空泵的出口压力。 5、比较大前级压力: 超过了能使泵损坏的前级压力。




比较大工作压力:对应比较大抽气量的入口压力。在此压力下,泵能连续工作而不恶化或损坏。 抽气量: 流经泵入口的气体流量。 压缩比: 泵对给定气体的出口压力与入口压力之比。分子真空泵主要是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使气体分子获得定向运动的速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵牵引分子真空泵,气体分子与高速运动的转子相碰撞而获得动量,被驱送到泵的出口。


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